Технологический институт Рочестера (Rochester Institute of Technology) предложил новую революционную технологию создания компьютерных чипов методом литографии. Данный метод позволил отобразить объекты на поверхности подложки с разрешением доселе не доступным никаким другим методикам. Полученное изображение имеет размер всего 26 нанометров, что в 5 раз меньше длины волны оптического излучения. Оно создано с помощью электромагнитного излучения ультрафиолетового диапазона (оптический диапазон просто бы не справился с такими масштабами). Подобная технология может совершить революцию в технологии интегральных микросхем.